ICP-OES分析儀

應用領域

1.水質分析：可檢測水質污染的八大重金屬等元素
2.冶金工業：可分析對金屬材料質量影響很大的As、Bi、Pb、Sb、Sn等雜質元素
3.水質分析：可檢測水質污染的八大重金屬等元素
4.地質、礦石分析：巖石樣品中Ca、Mg、Na、Fe、Cu、Mn、Zn、Co、Ni、Au、Ag等元素的測定   ICP-OES分析儀
5.石油化工和輕工領域的應用：測試原油中的30多種元素，主要有Fe、Na、Mg、Ni、V、       Ca、Pb、Mo、Mn、Cr、Co、、As等
6.醫療、衛生、農業環保、商品、食品質量檢測

7.硅工業：磁性材料加工行業  

【詳細說明】

電感耦合等離子體原子發射光譜儀（ICP）
參考價格：面議

整機技術指標

(1) 分析速度快 一分鐘分析快掃描20個元素以上

(2) 掃描范圍： 掃描范圍180~500nm、方式為正弦桿，由計算機控制的脈沖馬達驅動，小掃描步距0.0005nm

(3) 波長示值誤差和重復性：波長示值誤差：± 0.03nm    重復性<= 0.005nm

(4) 相關系數 >0.9998  

(5) 精密度： 相對標準偏差   RSD<1.5    

(6) 穩定性： 相對標準偏差      RSD<2.0

射頻發生器（RF）

（1） 電路類型：電感反饋自激式振蕩電路、同軸電纜輸出、匹配調諧、取功率 反饋信號，進行閉環自動控制。

（2） 工作頻率：40.68MHz ± 0.05

（3） 頻率穩定性：<0.1

（4） 輸出功率：800-1200W

（5） 輸出功率穩定性：&0.3

（6） 電磁場泄漏射強度：距機身20cm

電場強度E：＜2 V / m

分光器

（1） 光路： Czerny－Turner

（2） 焦距： 1000mm

（3） 光柵規格：離子刻蝕全息光柵；刻線密度3600線/mm, 刻線面積：80×110mm  (可選用刻線密度2400線/mm, 刻線面積：80×110mm)

（4） 線色散率倒數： 0.26nm

（5） 分辨率：<0.008nm（全部波段）

（6） 掃描波長范圍： 3600線/mm掃描波長范圍：180nm-500nm

    2400線/mm掃描波長范圍：180nm-800nm

（7） 步進電機驅動小步距： 0.0005nm

（8） 出射、入射狹縫：20um 、25um

（9） 反射鏡規格： （78×105×16）mm

（10）透鏡     1:1成像

儀器操作軟件要求

（1）操作系統 Windows XP 操作平臺

（2）測定波長數  任意選擇

（3）數據庫 譜線庫11萬條以上

（4）多窗口 在測量完一次結果后可以在顯示窗口保留上次結果同時、測量下一樣品

（5）有標準加入法 軟件要有標準加入法，以便在不同條件和應用中下使用

（6）分析模式 軟件默認佳分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模式，單位任選等多種功能

（7）歷史數據庫 在歷史數據庫中，可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結果

主要特點

ICP采用優良的光學系統，的電子控制系統，保證了定位準確，信背比確保儀器的度和靈敏度。
關鍵部件采用進口元器件 確保儀器的度和靈敏度.
測量范圍： 超微量到常量的分析.
重復性：     相對標準偏差RSD<1.5
穩定性：     相對標準偏差RSD<2.0
分析速度快： 掃描速度快達20個元素/min
分析元素多： 可對72種金屬元素和部分非金屬元素（P、B、Si、Se、Te）定性和定量分析.
檢出限低 ： 一般在ug/L(ppb)級. (1ug/ml Pb標準溶液性背比&ge5倍 )
測量線性范圍： （相關系數>0.9998）

便捷的分析軟件：
基于WindowsXP平臺下的第三代多窗口快速中文或英文操作軟件
人性化設計 ： 根據多年生產經驗和多方面采納用戶建議方便操作

儀器介紹

等離子體單道掃描光譜儀,是多元素順序測量的分析測試儀器。 該儀器由掃描分光器、射頻發生器、試樣引入系統、光電轉換、控制系統、數據處理系統、分析操作軟件組成。等離子體是在三重同心石英炬管中產生。炬管內分別以切向通入氬氣，炬管上部繞有紫銅負載線圈<內通冷卻水>當頻發生器產生的頻電流（工作頻率40MHz功率1KW左右）通過線圈時，其周圍產生交變磁場，使少量氬氣電離產生電子和離子，在磁場作用下加速運動與其它中性原子碰撞，產生更多的電子和離子， 在炬管內形成渦流，在電火花作用下形成等離子炬（即等離子體），這種等離子體溫度可達10000K以上。待測水溶液經噴霧器形成氣溶膠進入石英炬管中心通道。原子在受到外界能量的作用下電離，但處于激發態的原子十分不穩定，從較能級躍遷到基態時，將釋放出巨大能量，這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去。不同元素產生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上，計算通過控制步進電機轉動光柵,傳動機構將分光后的待測元素特征譜線光強準確定位于出口狹縫處，光電倍增管將該譜線光強轉變為光電流，再經電路處理和V/F轉換后，由計算機進行數據處理，后由打印機打出分析結果。